Якщо вдихається 3-аміно-5-меркапто-1,2, 4-триазол, перенесіть пацієнта на свіже повітря; у разі контакту зі шкірою зніміть забруднений одяг і ретельно вимийте шкіру мильною водою та водою. Якщо вам незручно, зверніться до лікаря; якщо у вас є чіткий контакт з очима, відокремте повіки, промийте проточною водою або звичайним сольовим розчином і негайно зверніться до лікаря; при попаданні всередину негайно полоскати горло, не викликати блювоти і негайно звернутися до лікаря.

З нього готують миючий розчин для фоторезистів

У загальному процесі виготовлення світлодіодів та напівпровідників маска фоторезисту формується на поверхні деяких матеріалів, а малюнок передається після експозиції. Отримавши необхідний зразок, залишковий фоторезист потрібно зняти перед наступним процесом. У цьому процесі потрібно повністю видалити непотрібний фоторезист, не роз’їдаючи жодної основи. В даний час очищувальний розчин для фоторезистів в основному складається з полярного органічного розчинника, сильної лугу та / або води тощо. Фоторезист з напівпровідникової пластини можна видалити зануренням напівпровідникової мікросхеми в миючу рідину або промиванням напівпровідникової мікросхеми очищувальною рідиною .

Розроблено новий тип розчину для чищення фоторезистів, який є неводним миючим засобом з низьким рівнем травлення. Він містить: спиртовий амін, 3-аміно-5-меркапто-1,2,4-триазол і сорастворитель. Цей розчин для чищення фоторезистів може бути використаний для видалення фоторезисту в світлодіодах та напівпровідниках. У той же час він не має удару по підкладці, такі як металевий алюміній. Більше того, система має сильну водостійкість і розширює робоче вікно. Він має хорошу перспективу застосування в галузі очищення світлодіодів та напівпровідникових чіпів.